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Chemisches Versorgungungsmodul für die Halbleiterindustrie in Ausführung als Cool-Down-Modul. Heisse (aggressive) Medien werden im Modul solange gekühlt, bis sie in den Drain/Abfluss entsorgt werden Standardisierte od kundenspezifische Ver- und Entsorgungsmodule für die Halbleiterindustrie, für zb den naßchemischen Bereich. Dieses Produkt in Ausführung als Cool Down Modul (CDM) für heisse aggressive Medien mit PP body, PFA Tank, PTFE Wellschlauch Heat Exchanger, B&R Automation Ablaufsteuerung. Verwendete Materialen PP (Korpus), PVDF (Tank), PFA (Tank, Tubing), PTFE (Tubing). Ultra High Purity.

Die Ausführung der konventionellen Elektroinstallation für Licht, Kraft und Schuko gehört zu unserem Standard. Darüber hinaus realisieren wir auch komplexe Steuerungen für Beleuchtung, Beschattung, Einzelraumregelung usw. mit Bussystemen KNX und LOXONE. Ein weiterer Schwerpunkt ist die Errichtung von EDV Netzwerken. Dies umfasst den Netzwerksverteiler, die Patchpanele, die Verkabelung bis hin zu den Anschlussdosen. Abgeschlossen wird das gesamte Netzwerksystem mit einer, der gültigen Norm entsprechenden, Messung samt Protokollierung. In den Bereich der Elektroinstallation fallen auch speziellere Anforderungen wie LWL-Verbindungen, Notlichtanlagen, Brandmeldeanlagen uvm. Für all diese Aufgaben haben wir jahrelange Erfahrung und bestens geschultes Personal.

Induction Inline heating system for ultra pure fluids. Highly chemical resistant materials provide usage with a wide range of aggressive fluids (acid, alkaline, organic solvents) Unser I²R Induction Inline Heater ist ein einzigartiger point of use heater für hochaggressive Medien. Die verwendeten Materialien, PTFE, PFA, glassy carbon sorgen für kontaminiationsfreies Heizen aller gängigen Flüssigkeiten im Halbleiter, Pharma und Lebensmittelbereich. Die verwendete Technologie bietet eine bisher nicht gekannte, akkurate Temperaturregelung am point of use zur Verfügung. Je nach Anwendung wird eine Genauigkeit von unter 0,1°C erreicht. Temperatursprünge von 40°C bei 1lpm Durchfluss werdne spielend erreicht. Der heater ist zudem kaskadierbar sowie dynamisch regelbar. Anwendungen: 1. Booster Heizer am point of use in bestehenden Systemem 2. dynamische Heizregelung zb während eines naßchemischen Prozesses, oder Wafer zu Wafer, Lot zu Lot repeatability. 3. Heater / Cooler Anwendungen 4. Temperaturkompensation über Produktwafer Vorteile: * platzsparend * schnellste Temperaturänderung (<2s T90 bei 2lpm) * hoher Wirkungsgrad * hohe Lebensdauer * ATEX Version verfügbar kundenspezifische Anwendungen/ Ausführungen möglich