I-HE - 100µ

Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt. Anwendungsgebiete von I-HE: Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken MEMS packaging Lens packaging Produktion von Lab on Chip - Systemen Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall. I-HE ist verfügbar in Rollen in: 75µ 100µ Menge: Rolle Größe: 0,61m x 50m Rolle Artikelnummer: ID 12322