Vakuumbeschichtung mittels PVD-Verfahren

Wir erweitern Ihre Materialeigenschaften Die Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) sind vakuumbasierte Beschichtungsverfahren, bei denen mit Hilfe physikalischer Prozesse das Beschichtungsmaterial in die Gasphase überführt wird und anschließend als dünne Schicht auf dem Substrat kondensiert. Vakuumbeschichtungsverfahren zeichnen sich durch eine Reihe von Vorteilen aus, von denen besonders die Vielfalt der möglichen Beschichtungsmaterialien, die Reproduzierbarkeit der Schichteigenschaften, die gezielte Einstellung gewünschter Schichteigenschaften und die große Schichtreinheit hervorzuheben sind. Für die Beschichtung setzen wir zwei verschiedene PVD Verfahren ein: Zum einen das thermische Verdampfen und zum anderen das Sputtern auch bekannt als Kathodenzerstäubung. Die Plasmabehandlung von Polymeroberflächen im Vakuum kann ebenfalls in einer der Anlagen durchgeführt werden. Damit erzielt man eine Reinigung und Aktivierung der Oberfläche, um darauf die Haftung von Lacken, Klebstoffen und Beschichtungen zu verbessern. Für die Beschichtung von flexiblen Substraten von Rolle zu Rolle im Vakuum stehen zwei Beschichtungsanlagen zur Verfügung. Es können Rollen bis zu einer Breite von 1.650 mm und einem maximalen Rollendurchmesser von 1.200 mm beschichtet werden. Das Material kann auf Hülsen mit einem Durchmesser von sowohl 76, 120 als auch 152 mm gewickelt sein. Mit zwei modernen Rollenschneidern kann das beschichtete Material auf die gewünschte Breite und Länge konfektioniert werden. Eingesetzte Verfahren Beschichtungsmaterialien und Substrate