Megasonic Tanks

Speziallösungen serienmäßig Der Quarzglas-Prozesstank ist in das Außenbecken aus PVDF eingesetzt. Der Megasonic-Energieeintrag in den Prozesstank erfolgt indirekt mittels Kontaktmedium (DI-Wasser) über zwei in den Seitenwänden eingebauten Transducerplatten. Das Transducer-Array auf jeder Transducerplatte ist in 4 gleich große Segmente aufgeteilt. Jedes Segment wird mit ca. 500 Watt bei 1 MHz betrieben.Es sind immer alle Piezo-Elemente einer Transducerplatte gleichzeitig aktiv und werden mit einer Gesamtleistung von max. 2000 Watt angesteuert. Der Betrieb der beiden Transducerplatten erfolgt sequentiell im Zeittakt von ca. 8 Sekunden, d.h. zuerst die komplette rechte Seitenwand, danach die komplette linke Seitenwand. Das Megasonic System zeichnet sich durch äußerst kompaktes Design und optimierte Medienströmung aus. Anwendung: Das Megasonic System ist speziell für den Einsatz in Nassprozessen bei der Produktion von Halbleiter-Wafern entwickelt worden. Insbesondere für SC1 Reinigungsprozesse und "Final Rinse" Anwendungen im Temperaturbereich von 20°C bis ca. 75°C für bis zu 50 Stück 300 mm Wafer.