Compound und Trockenmittel für Gleitschleifanlagen, organische Strahlmittel
Compound zur Verwendung in Gleitschleifanlagen zum Reinigen, Entfetten bis hin zum Hochglanzfinish, Walnussschalen-, Maiskolbenspindelgranulat
Unsere Compounds sind für die Verwendung in Geitschleifanlagen, als Zugabe zu den Gleitschleifmedien entwickelt worden. Sie eignen sich sowohl für den Nassprozess als auch für den Trockenprozess. Je nach Anwendung werden unsere Compounds als Liquid oder Pulver eingesetzt, zur Reinigung, Entfettung bis hin zum Hochglanzpolitur.
Anwendbar für Stahl, Edelstahl, Aluminium, Zink, Messing, Kupfer, Titan, Gold oder auch Kunststoff.
Unsere Trockenmittel bestehen aus Walnussschalengranulat oder Maiskolbenspindelgranulat und sind in diversen Körnungen erhältlich.
Körnungen Walnussgranulat:
200 - 450
450 - 800
450 - 1000
800 - 1300
1000 - 1500
1000 - 1700
1300 - 1700
1700 - 2400
#5, #8, #10, #14, #16, #20, #24, #30, #36, #46, #46R, #60, #80
Körnungen Maiskolbenspindelgranulat
GM 8 (2800-3800µm)
GM 12 (1800-2800µm)
GM 16 (800-1800µm)
GM 20 (400-800µm)
GM 30 (200-400µm)
Neben dem Einsatz als Trockenmittel können sowohl das Walnussschalengranulat als auch das Mailkolbenspindelgranulat als Strahlmittel zur schonenden Reinigung und Entlackung ähnlich dem Duroplaststrahlmittel eingesetzt werden.
Wir beraten Sie gerne.
Einsatzgebiet Compound: Gleitschleifprozess, als Liquid oder Pulver
Gleitschleifprozess Compound: Nass- und Trockenprozess
geeignet für: Stahl, Edelstahl, Aluminium, Zink, Messing, Kupfer, Titan, Gold oder auch Kunststoff
Trockenmittel: Walnussschalengranulat, Maiskolbenspindelgranulat
Strahlmittel: Walnussschalengranulat, Maiskolbenspindelgranulat zur schonenden Reinigung