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Mit einem großen Sichtfeld, einem langen Arbeitsabstand und großen XYZ-Hüben bietet die iNEXIV VMA-Serie ein Optimum an Benutzerfreundlichkeit für die automatische Messung von 3D-Komponenten. Verschiedene Messanwendungen mit einem weiten Sichtfeld Die iNEXIV VMA-Serie bietet drei Arten von Messbereichen und eine Optik mit großem Sichtfeld. Diese taktilen Systeme sind ideal für eine Vielzahl von industriellen Mess-, Inspektions- und Qualitätskontrollanwendungen, bei denen sowohl visuelle als auch taktile Messungen eingesetzt werden. Die VMA-Serie ist für Schnelligkeit und Benutzerfreundlichkeit sowie für die wiederholbare, genaue Messung einer Vielzahl unterschiedlicher Komponenten optimiert. Großer Arbeitsabstand Der iNEXIV VMA hat einen großen Arbeitsabstand von 73,5 mm. Er eignet sich gut für Tiefenmessungen, bei denen die Höhenunterschiede groß sind, wie z. B. an hohen Vorsprüngen und in feinen, tiefen Löchern. Taktile Messung (Optional) Die iNEXIV VMA ist in der Lage, die Abmessungen und Winkel von nicht sichtbaren Eigenschaften zu messen, wie z. B. Löcher an der Seite eines Bauteils.

Eine Serie von flexiblen, modularen, aufrechten Mikroskopen für verschiedene episkopische optische Kontrastverfahren (BF-DF-DIC-POL-Fluoreszenz-Interferometrie). Modulare, motorisierte und manuell aufrechte Mikroskope Die hervorragenden Optiken der Nikon CFI60-2 Serie liefern exzellente Bilder für beide Okulare und für die digitalen Nikon-Kameras mit Analyse-Software. Dank des modularen Aufbaus ermöglicht das Universalmikroskop ergänzende optische Kontrastverfahren auf einem Mikroskopstativ. Nikon ECLIPSE LV150NA und LV150N Diese Mikroskope mit episkopischer Beleuchtung finden Ihren Einsatz für die Prüfung von Halbleitern, industriellen Materialien und Komponenten. Sie eignen sich auch für Anwendungen in Forschung und Entwicklung. Nikon CFI60-2 Objektiv-Serie Nikons innovatives Design ermöglicht kristallklare Abbildungen mit unterschiedlichen Kontrastverfahren, einschließlich kontrastreiche Hellfeld-, Dunkelfeld-, Polarisations- (POL), Interferenzkontrast- (DIC) und Zweistrahl-Interferometrie-Verfahren. Nikon Digital Sight Kameras Die gesamte Palette der Digital-Sight-Kameras von Nikon kann Bilder einer Probe aufnehmen und an die Bildverarbeitungs-Software der NIS-Elements-Suite übermitteln. Bei Verwendung des LV-ECON E-Controllers können auch Daten zu den verwendeten Objektiven, den eingestellten Vergrößerungen und Beleuchtungseinstellungen automatisch an die Software übermittelt und von ihr gesteuert werden. Integration von LV150N und Wafer-Loader NWL200 Nikons Wafer-Loader sind in der gesamten Halbleiterindustrie anerkannt und bewährt, und viele Installationen sind heute im Einsatz. Universelle optische Kontrastverfahren Reflektiertes Licht: Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation (POL), differenzieller Interferenzkontrast (DIC), Epi-Fluoreszenz und Zweistrahl-Interferometrie. Modulares Komponentenzubehör Vom Lampenhaus bis zum Okular werden die Komponenten so ausgewählt, dass sie der Anwendung des Benutzers entsprechen. Dazu gehören Stative, Tische, Objektive, Objektivrevolver, Einblicktuben, Okulare, Digitalkameras, Filter und Zubehör für Kontrastverfahren. Intelligente digitale Kommunikation Mit Hilfe eines LV-ECON E-Controllers können die Mikroskope LV150NA und LV150N die Objektive, die Lichtintensität, die Blende und den Epi-Kontrast über die Nikon-Software NIS-Elements erkennen und steuern. Das LV150N erkennt und meldet die Objektivlinse mit Hilfe des LV-NU5I und LV-INAD. Ergonomisches Design Die optimale Positionierung der Bedienelemente und der variable Winkel des Einblicktubus ermöglichen ein ermüdungsfreies Arbeiten. Seitenrichtige aufrechte Bilder ermöglichen die korrekte Beobachtung von Rohstoffen, Halbleitern und industriellen Komponenten.

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