Hochtechnologische Oberflächenveredelung
3D-Hybride Au– Quadroimpuls-CVD-Verfahren (80ºC – 1200ºC)
3D-AUDIP-CVD- Verfahren (80ºC – 1200ºC)
Mittels diesem Verfahren werden folgende Hartstoffe hergestellt:
Impuls-Plasma-Nitrieren (420ºC – 700ºC)
Plasma-Nitrieren (480ºC – 700ºC)
PVD-Verfahren (100ºC – 700ºC)
Reaktives Magnetronsputtern
Reaktives Multi-ARC 3A-7
Reaktives Bedampfen mittels Elektronen-Strahlkanonn
Hochtemperatur– CVD– Verfahren (850ºC bis 1240ºC)
Mittels diesem Verfahren werden folgende Hartstoffe hergestellt:
Me-Karbide : CrxCy, NbC, TaC, TiC, VC, WC , TiVC
Me-Nitride : TiN, NbN, TaN, VN und WN
Me-Karbonitride : TiCN, NbCN, TaCN, TiCN, VCN, WCN
Andere : Al
u. a..