Simulation

Mit digitalen Modellen unterstützen wir Entwicklung und Optimierung neuartiger Fertigungsprozesse der Halbleiter- und Nanotechnologie. Für viele chemische (z.B. CVD, ALD, ALE) und physikalische (z.B. Sputtern) Prozesse der Abscheidung und Strukturierung haben wir kalibrierte Modelle. Prozesse untersuchen wir mit digitalen Modellen vom Waferlevel bis in die Details komplexer 3D-Mikro- und Nanostrukturen. Damit ist es beispielsweise möglich, Schichtgeometrien oder –zusammensetzungen in anspruchsvollen Strukturen vorherzusagen oder Prozesse für Zielgeometrien zu optimieren. Atomistische und physikochemische Modelle ergänzen unser Portfolio an digitalen Prozessmodellen vom Einzelprozess bis zur Technologie. Für die Simulation von Materialien und Bauelementen bieten wir vielfältige moderne Methoden auf allen erforderlichen Längenskalen – vom Atom bis zum Bauelement. Damit können wir Einflüsse der Prozesse auf die gefertigten Materialien Strukturen ebenso vorhersagen, wie die Eigenschaften der gefertigten Nanobauelemente. Im Zentrum stehen dabei atomar definierte Material-Strukturmodelle, die wir mit Eigenschaftsmodellen vor allem für elektronische Eigenschaften verknüpfen. Wir haben langjährige Erfahrungen im Bereich klassischer Halbleitermaterialien wie Si, Ge, oder SiGe aber auch mit Kohlenstoffelektronik und Nanodraht-basierten Bauelementen. Mit unseren Partnern und Kunden entwickeln wir ständig neue Modelle für das digitale Protoyping von Fertigungsprozessen oder Bauelementen. Gemeinsam planen wir Kalibrierung und Referenzexperimente, um verlässliche Vorhersagen durch Simulation zu erzielen.