Our lithography processing equipment is suitable for applications like spin coating, spray coating, baking, priming, developing, substrate cleaning, lift-off and stripping of various substrates.
Hochkonzentriertes, flüssiges pH- Korrekturmittel zum Senken des pH-Wertes. Anteil Schwefelsäure ca. 49%. Entspricht DIN 19643 und DIN EN 15078.
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